尼康绕过ASML拓展中国光刻机市场 力图重振业绩

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日本尼康(Nikon)为了重振业绩,宣布将大幅转变半导体光刻机业务的战略,预计于2024年夏季推出新产品。目前,尼康在全球光刻机市场的排名仅为第3,市占率为7%。为了追赶行业领先者ASML,尼康将利用不违反对华出口管制的成熟技术,寻求逆势开拓中国市场。

利润下滑严重

根据《日经中文网》的报导,尼康预测2023财年的合并净利润将同比减少22%,降至350亿日元,这主要是由于半导体设备相关的精密机械业务和相机影像业务的低迷。光刻机作为半导体制造的核心,市场份额排名第3的尼康,希望通过推出新产品来改变局面。

报导指出,尼康曾在1990年代之前主导市场,但在极紫外(EUV)设备的开发竞争中败给了ASML。为了打开局面,尼康将采用1990年代初实用化的老一代光源技术,推出成熟技术的新光刻机产品,着眼于制造需要耐久性的功率半导体。

确保不违反对华出口管制

对于出口管制的问题,尼康表示他们正与日本经济产业省讨论,确认新产品不违反对华出口管制,并计划积极在中国市场销售。由于中国企业难以从海外购得最尖端的设备,尼康希望借此机会重新振兴业绩。

尼康将于2024年夏季推出新产品,成熟技术的应用是否能为其带来成功,成为东山再起的试金石仍有待观察。

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