ASML：中国晶片落后西方至少10年

荷兰晶片设备制造商艾司摩尔（ASML）执行长福克近日表示，由于美国对中国禁止出口极紫外光（EUV）曝光设备，导致中国无法获得尖端曝光机，中国晶片技术将落后西方10至15年。

综合香港阿思达克财经平台、经济日报星期五（12月27日）的消息，福克（Christophe Fouquet）日前接受荷兰“商务日报”（NRC Handelsblad）专访，提及美国晶片限制对中国晶片制造业的影响。

福克说，透过禁止出口极紫外光曝光技术，中国技术目前落后于西方约10至15年，“这些措施确实展现效果”。

福克并表示，即使ASML无法向中国供应最先进的EUV技术，“中国晶片制造业仍在奋勇前进，在各环节都有一定基础，持续自主发展”；而不论是中国、美国或是其他政府，都会视ASML为一块关键拼图。

对于近月屡次传出美国要求荷兰禁止ASML为中国用户提供维修服务，福克表示，ASML希望可以管理公司在中国的机器，若中国公司自行维修设备以保持晶片工厂运转，更可能出现资讯外泄情况，“希望川普政府很快能明白个中逻辑”。

全球约90%晶片由ASML曝光系统生产。随着先进制程向5奈米及以下进化，EUV成为未来曝光技术和先进制程核心，主要用于7奈米及以下先进晶片制造制程，ASML是唯一供应商。